מטרות ריזור טונגסטן טיטניום

1. שם מאפיינים: יעדים מיוחדים לנתז סגסוגת
2. שם מוצר: מטרות קפיצת טיטניום טונגסטן
3. סמל אלמנט: W + Ti
4. טוהר: 3N5, 4N, 4N5
5.צורה: מישורית

שלח החקירה

הצגת המוצר

מטרות ריזור טונגסטן טיטניום:

מטרות הקזת טונגסטן טיטניום שלנו מיוצרות באמצעות טכניקות ייצור מתכות מתקדמות של אבקה. אנו מציעים מטרות מקרטעת WTi במגוון גדלים, בקוטר של עד 400 מילימטרים. אנחנו בין היצרנים הראשונים שיצרו WTi גם כמטרה סיבובית וגם כמטרה מישורית. תכולת הטיטניום ביעדי ה-WTi שלנו היא בדרך כלל 10% במשקל.

צְפִיפוּת	גדול או שווה ל-98%
טוֹהַר	> 99.95%
תכולת טיטניום	10% במשקל
הומוגניות של הפצת טיטניום	± 0.5%
מבנה מיקרו	גרגר עדין, גודל גרגר < 50 מיקרומטר

מטרות ריזור טונגסטן-טיטניום

סגסוגת טונגסטן-טיטניום

אזורי יישום עבור טונגסטן-טיטניום:
טונגסטן-טיטניום (WTi), המכיל 10% טיטניום במשקל, משמש כדבק מתכת וכמחסום דיפוזיה בשבבים. במקרה זה, WTi משמש להפרדת שכבות המתכת והמוליכים למחצה, כגון נחושת מסיליקון או אלומיניום מסיליקון. ללא מחסומי דיפוזיה, סיליקון ונחושת ישתלבו כדי ליצור שלב בין-מתכתי בשבבים מיקרוניים, דבר שיפגע בביצועי המוליך למחצה. שכבת מחסום WTi משמשת בתאי שמש גמישים עם סרט דק (CIGS) כדי לעצור יוני ברזל מלהתפזר דרך המגע האחורי של מוליבדן ואל המוליך למחצה. ניתן להפחית במידה ניכרת את היעילות של תאים סולאריים של CIGS בכמה גרם/גרם ברזל.

א.מטלורגיית אבקה משמשת ליצירת מטרות לקרטעת טיטניום טונגסטן, הנמצאות בשימוש נרחב בייצור מוליכים למחצה ותאים סולריים בסרט דק.

b.WTi10wt% סרט דק משמש ביישומי מוליכים למחצה כשכבת הדבקה ומחסום דיפוזיה כדי לבודד את שכבות המתכת מהמוליכים למחצה, כגון נחושת או אלומיניום מסיליקון. כתוצאה מכך, ניתן לשפר מאוד את תפקוד הטרנזיסטור בשבבים.

c.WTi10wt% סרט דק משמש גם בתאים סולאריים בסרט דק כשכבת מחסום כדי לעצור יוני ברזל מלהתפזר ממצע הפלדה למגע האחורי מוליבדן ולמוליב למחצה CIGS. מטרות עשויות טיטניום טונגסטן משמשות גם לכיסוי כלים ונוריות LED .

בשתי האיורים, מתכת מוליכים למחצה הפוך באמצעות שכבות WTi מוצגת מתחת למבנה הסכמטי של תא סולארי CIGS משמאל.

Tungsten Titanium Sputtering Targets picture 1

איכות השכבה עולה עם טוהר חומר הציפוי. כדי להבטיח את הרמה הגבוהה ביותר של טוהר החומר, אנו משתמשים רק באבקה הטהורה ביותר ומערבבים אותה במתקנים שלנו מההתחלה. מהאבקה ועד למוצר המוגמר, אנו עוקבים מקרוב אחר כל שלב כדי לוודא שרק מטרות עם הצפיפות המדויקת, הטוהר והמיקרו-מבנה ההומוגנית יוצאות מהמתקן שלנו.

המפעל שלנו מסוגל לייצר מטרות עם WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt%, והרכב מיוחד Tungsten Titanium Sputtering Targets שניתן להתאים אישית. הצפיפות של המטרות בפועל היא > 99%, וגודל הגרגר הטיפוסי הוא 100um. משתמשי קצה יכולים להשיג שיעורי שחיקה קבועים וטוהר גבוה וציפוי סרט דק הומוגני במהלך תהליך PVD עם טוהר של עד 4N5 וטיפול חישול מיוחד, גודל גרגר אחיד ותכולת גז מופחתת.

אם יש לך צרכים או שאלות, אנא אל תהסס לפנות אלינו.