חלקיקי טנטלום מצופים באידוי

תהליך שינוי השלב הנוזלי מאופיין בפיזור חלקיקים בשלב הנוזל ובספיחה של המשנה, אפקט שינוי חלקיקי טנטלום בציפוי אידוי יציב, המשנה בספיחה של פני החלקיקים אחידה, מלאה, אך החלקיקים אם מיושמים במצב יבש, אבל גם צריך לעבור טיפול ייבוש, תהליך השינוי הוא מורכב ויקר.

תהליך השינוי היבש מאופיין על ידי פיזור חלקיקים במצב יבש, על ידי התזת תמיסת משנה או תמיסת משנה, בטמפרטורה מסוימת כך שהמשנה ספיחה על פני החלקיקים כדי להשלים את שינוי פני השטח של החלקיקים. שיטת השינוי גמישה, פשוטה ובעלות נמוכה, אך קשה להגיע לטיפול אחיד בחלקיקים של תהליך השינוי.

תהליך שינוי שלב האדים מאופיין בפיזור של המשנה בשלב הגז יכול להיספג באופן אחיד על פני החלקיקים, אפקט שינוי החלקיקים יציב, בהשוואה לציוד עיבוד הפאזה הנוזלית, האבקה המשתנה אינה צריכה להיות מיובש. עם זאת, בשל המגבלות של טכנולוגיית ההפרדה בין גז-מוצק בתהליך השינוי, קשה לציוד לטיפול בשלבי גז לשנות את פני השטח של חלקיקים תת-מיקרוניים.

תהליך הטיפול הכימי בכוח המכני מאופיין בהוספת חומרים משנים לטיפול בשינוי פני השטח בזמן כתישה של החלקיקים, וטיפול בשינוי פני השטח של החלקיקים מתבצע תוך הפחתת גודל החלקיקים של האבקה. בשל תהליך הריסוק, החלקיקים יפיקו מספר רב של משטחים מתחילים פעילים ביותר, והפעולה המכנית החזקה במהלך תהליך הריסוק יכולה להפעיל את פני החלקיקים, ולשפר למעשה את ספיחת המשנה על פני החלקיקים. ניתן לשלב את התהליך עם ריסוק חלקיקים ושינוי פני השטח, המפשט את תהליך העיבוד של חלקיקים, ויכול לשפר את היעילות של ריסוק החלקיקים ולשפר את ההשפעה של שינוי פני החלקיקים. עם זאת, בשל תהליך השינוי, החלקיקים נמחצים כל הזמן, וכתוצאה מכך משטח חדש, משטח החלקיקים קשה לספוח לחלוטין את המשנה.

תהליך שינוי קרינה באנרגיה גבוהה מאופיין בשינוי ישיר של מטען פני החלקיקים ושינוי אופי משטח החלקיקים באמצעות קרינה באנרגיה גבוהה, או שימוש בקרינה באנרגיה גבוהה כדי לשפר את ספיחה של חומרים אורגניים על פני החלקיקים ולשנות טוב יותר פני השטח של חלקיקי טנטלום מצופים באידוי.

תגיות פופולריות: חלקיקי טנטלום מצופים אידוי, ספקים, יצרנים, מפעל, מותאם אישית, קנייה, מחיר, הצעת מחיר, איכות, למכירה, במלאי