המונח "מטרת התזת" מתאר מקור קיצוץ שמנתז ומופקד על מצע על ידי קיצוץ מגנטרון, ציפוי יונים רב-קשתות או סוגים אחרים של ציוד ציפוי בתנאי התהליך המתאימים ליצירת סרטים דקים פונקציונליים שונים. משמש במגוון תעשיות, כולל תאים סולאריים, צגים שטוחים, מוליכים למחצה, אלקטרוניקה שטוחה, כלי עבודה, זכוכית ויישומים דקורטיביים. בתחומים שונים יש צורך בחומרי מטרה מובהקים.
הגדרת המטרה הבוערת
על פי הנוהל, ניתן לחלק את הכנת חומרי מטרה מקרטעת לשתי קטגוריות: מתכות אבקה ויציקה מותכת. יש לשלוט בקפידה על הנסיבות שבהן החומר מחומם במהלך תהליך הטיפול בחום, כמו גם את טכניקות העיבוד הבאות, בנוסף לטוהר, צפיפות, גודל גרגירים וכיוון הגביש של החומר. לִשְׁלוֹט.
1. עיבוד מתכת עם אבקות
על מנת להכין מטרות בהצלחה באמצעות מטלורגיית אבקה, חשוב: (1) לבחור אבקה בטוהר גבוה ודקה במיוחד כחומרי גלם; (2) בחרו בטכנולוגיית יצירת וסינטרינג שיכולה להשיג צפיפות מהירה על מנת להבטיח נקבוביות נמוכה של המטרה ולשלוט בגודל הגרגיר; וכן (3) לפקח בקפדנות על הכנסת יסודות טומאה.
2. גישת יציקת ההיתוך
אחת מהטכניקות הבסיסיות ליצירת מטרות קיצוץ היא תהליך יציקת ההיתוך. ההיתוך והיציקה של המטיל נעשים בדרך כלל תחת ואקום או אטמוספרה מגנה כדי לוודא שתכולת אלמנט הטומאה נמוכה ככל האפשר. עם זאת, כמות מסוימת של נקבוביות בפנים מסגרת החומר היא בלתי נמנעת במהלך תהליך היציקה. איכות הסרט המקרטע תושפע מנקבוביות אלה מכיוון שהן יגרמו לחלקיקים להתפזר במהלך תהליך הקפיצה. כדי להפחית את החדירות שלו, יש צורך בעיבוד תרמי וטיפול בחום נוספים.
