אני מאמין שלכל אחד יש קצת ידע על מטרות ציפוי. הוא עובר על מערכת הציפויים. יעדי ציפוי מצופים קשיחים הם כעת משהו שאנו מבינים. השלב האחרון מסוכם לכולם על ידי העורך.
עיצוב הרכב יעד, שינוי מבנה גבישי יעד, הכנת מטרה, שיפור תהליכים ואופטימיזציה של התנהגות קפיצת מטרה הם ארבעת תחומי העניין הנוכחיים של מחקר על יעדי ציפוי עבור ציפויים קשים. היום, נתרכז באופטימיזציה של התנהגות הקפיצה של המטרה השלב האחרון של תהליך הציפוי הקשיח.
ההעסקה של המטרה בתהליך הציפוי צריכה להיות המוקד הבלעדי של המחקר של המטרה. המטרה ממוקמת בתא הוואקום לאורך תהליך הכנת הציפוי עם מצב פלזמה מורכב מאוד, הגורם לשחיקת המתכת של המטרה. לפלזמה יש השפעה על מסלול האטום.כדי לשמור על היעד במצב יציב וטוב במהלך הבנייה, יש חשיבות מכרעת לייעל את תהליך הציפוי.קצב שחיקת המטרה ואובדן האטומים המקרטעים במהלך תנועתו של האטום המקרטע למצע במהלך תהליך ציפוי הקזת המגנטרון של מטרת הסגסוגת.
לצפיפות זרם היונים ולמטרת הפיצוץ יש את ההשפעות הרבות ביותר על תפוקת הקפיצה של המטרה. אובדן זווית ואובדן פיזור הם שני הסוגים העיקריים של אנרגיית יונים, אובדן אטום מקרטעת. ניתן לשנות את הצפיפות והאנרגיה של החלקיקים התוקפים את המטרה על ידי שינוי זרם המטרה. ניתן להפוך את הרעלת המטרה ליעילה יותר על ידי התאמת הלחץ החלקי של החנקן. ניתן לשלוט ביעילות על קצב מעבר אטומי המתכת למצע על ידי התאמת הטיית המצע. על מנת להכין ציפוי באיכות גבוהה יותר, ניתן להפוך את חומר המטרה כך שיתאים יותר לסביבה של תא ואקום הציפוי על ידי ויסות פרמטרי התהליך.
אנו עשויים להרוויח מהעובדה שהצמיחה המהירה של תעשיית האלקטרוניקה עוררה התקדמות משמעותית במספר עסקים סמוכים. התקדמות המדע והטכנולוגיה מונעת על ידי הזמן. יעדי ציפוי מצופים קשיחים הם אחד המנצחים הגדולים, יחד איתנו.
